汎銓科技新研發CP(cross-section polisher)工法: CEF(curtain effect free)

CEF(curtain effect free)特殊分析技術

減少研磨液殘留
減少刀痕
保留結構最原始樣貌

CP是用離子束進行橫截面樣品製備的常用工具。

對於異質材料來說,特別是在製備過程中如何避免結構變形十分重要!

MSS提供了一種新的CP方法"CEF"盡可能降低這種影響。

圖說:
aCEF製備後的樣品的SEM圖像。
b)放大在a)綠色虛線矩形標記的區域的圖像。可以看到沒有任何窗簾效果截面。 

cCu表面的放大倍數更高,原始的表面粗糙度可以很好地觀察到。