服務項目

Plasma FIB

電漿聚焦離子束掃描電子顯微鏡
Plasma Focused Ion Beam - Scanning Electron Microscopes (PFIB) Dual Beam

  • • 目前商用FIB系統的離子源,大多為鎵(Gallium, Ga),但Ga+FIB的材料去除率限制了可以探測到的體積和深度,通常觀察範圍在數十微米(um)內。
  • • PFIB所使用的離子源為Xe +。
  • • MSS PFIB搭載目前最新設計切削速率更可提升20倍以上,適用長寬深大於100um以上樣品大範圍面積觀察,並減少過往GaFIB在製備樣品的損傷。

 

PFIB Dual Beam應用分享 - 案例一

300um × 300um Cross-section (Bump)

 


 

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陳小姐 分機6211
E-mail: lynn_chen@msscorps.com