AFM

New!!! Park NX20

• • 無損非接觸分析
• • 最大樣品尺寸–12“晶圓
• • 更好的空間分辨率，50Å
• • 樣品的外觀尺寸可以測量
• • 可以捕獲3D形狀
• • 表面粗糙度可以量化為數值數據
• • 解耦的XY和Z掃描儀，未處理的行數據以及高度線性和正交的XY掃描

– 原子力顯微鏡 (Atomic Force Microscopy, AFM)

原子力顯微鏡（AFM）利用特製的微小探針，來偵測探針與樣品表面之間的某種交互作用，如穿隧電流、原子力、磁力、近場電磁波等等，然後使用一個具有三軸位移的壓電陶瓷掃描器，使探針在樣品表面做左右前後掃描，利用此掃描器的垂直微調能力及迴饋電路，讓探針與樣品的交互作用在掃描過程中維持固定，此時兩者距離在數至數百A°（10-10m）之間，而只要記錄掃描面上每點的垂直微調距離，我們便能得到樣品表面的等交互作用圖像，這些資料便可用來推導出樣品表面特性。AFM探針大多由矽製成，針尖曲率半約為10nm，是微觀表面結構研究的重要工具。

– 導電式原子力顯微鏡 (Conductive Atomic Force Microscopy, CAFM)

導電式原子力顯微鏡（Conductive Atomic Force Microscopy, CAFM）是外加一組電流放大器於顯微鏡，然後以Contact Mode掃描試片表面，在取得高度訊號的同時，若是樣品表面有電流產生，探針亦會取得此電流訊號. 利用CAFM的掃描得到掃描區域之高度及電流分布影像，進而可以比對且找出電性異常的位置更可進一步的於特定的點上取得電流/電壓曲線（IV curve）。

– 設備種類 VEECO INNOVA SPM (原子力)

SPECIFICATIONS :
XY > 90um, Z > 7.5um
Open-Loop scanner:
XY > 5um, Z > 1.5um
Sample size:
X-45mm x Y-45mm x Z-18mm
Motorized Z Axis stage:
Z Travel:18mm
Resolution:
<2um with standard 10x objective

– AFM 應用範圍

– C-AFM 應用範圍

1. 故障定位(Higher resistance/Junction leakage/Gate oxide leakage)
2. 區別出不同的Contact types (P+/N+/Poly contact) 。
3. I/V curves measurement

▍工程聯繫窗口

黃小姐 分機 6218
E-mail: huini_huang@msscorps.com