XPS
XPS(X-ray photoelectron spectroscopy) X-射線光電子能譜儀
XPS 應用原理_利用X-ray照射樣品表面，偵測所激發出來的光電子經偵檢器分析後，依據不同元素、不同軌域所產生的光電子束縛能不同，判斷得知光電子為何種元素及其軌域。同時亦可藉由鍵結電荷密度不同造成光電子束縛能些微改變，分析得知元素與不同元素化學鍵結的變化。
XPS – Nexsa 系統可提供全自動的多技術分析集成了ISS、UPS和REELS等多種分析技術的結合，其應用在微電子，超薄膜，奈米表面分析之技術開發及選項形式的靈活性讓更多應用發展進階潛力。同時發揮分析質量達到最大化程度的結果，實現真正的表面材料相關數據分析。
圖- Nexsa: Small spot XPS, multi-technique analysis
▍應用範圍
- 1. 絕緣材料分析
- 2. 高效能光譜
- 3. 縱深剖析、多重技術整合
- 4. X-Ray small spot size分析
- 5. SnapMap 光學視圖可提供精確定位分析
- 6. 同位素分析
- 7. Energy band gap分析
- 8. 分析樣品最大面積 ~ 3600 mm2 (長 60mm x 寬60mm)；分析樣品高度限制 < 20 mm
▍SnapMap
光學視圖。幫助快速確定區域，同時產生完全聚焦的XPS圖像。
▍應用領域
玻璃塗料、聚合物、電池、石墨烯、太陽能電池、有機發光二極管、金屬和氧化物、生物表面、薄膜、半導體類、陶瓷、催化劑類、奈米材料 ……
▍工程聯繫窗口
黃小姐 分機 6218
E-mail: huini_huang@msscorps.com
